微纳米硅化铪粉

技术参数

产品归类	型号	平均粒径（um）	纯度 （%）	比表面积（m2/g）	体积密度（g/cm3）	晶型	颜色
微纳级	CW-HfSi2-001	<1.0	99.5	12.47	5.12	立方	黑色
超细级	CW-HfSi2-002	1-3um	99.5	10.25	5.36	立方	黑色
微米级	CW-HfSi2-005	325目	99.5	3.16	6.79	立方	灰黑色
加工定制	根据客户需求适当调整产品纯度及粒度

微纳米二硅化铪粉、微米二硅化铪粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，耐高温，抗氧化，硬度高，是一种高级工程材料，在各个领域有着广泛应用。高熔点(1680℃)、高硬度、高稳定性以及良好的导电性、导热性、抗氧化性。
应用领域
二硅化铪主要用于制造溅射靶材，雷达航空航天、电子工业、仪表仪器、医疗器械等 
技术支持
可以提供微纳米硅化铪粉在耐磨涂层、航空航天、复合材料中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。咨询邮箱sales@cwnano.com QQ892050749
包装储存
本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。
产品资料、技术咨询、索样：
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