松下32纳米制程LSI本月正式量产

今年10月起，松下开始以32纳米制程批量生产大规模集成电路（LSI），LSI(Large-scale integration)将应用于松下支持3D放映的蓝光播放器中。32纳米制程的LSI在今年春季首次被美国英特尔应用于笔记本电脑中而实现量产，此次松下把32纳米制程的LSI应用于旗下家电制造中在业界还是首次。

　　32纳米制程的LSI将在松下位于日本富山县鱼津市的工厂内开始量产，由于该工厂目前已经在批量生产目前世界最先进的45纳米制程的LSI，多数生产设备可以继续利用以生产32纳米制程的LSI，因而松下仅需付出少量资金用于更新生产设备。目前，松下并没有公布量产规模及投资金额，不过松下将会把更新生产设备的投资金额控制在250亿日元之内。

　　和现有的45nm工艺相比，32nm工艺在以下几个方面有着显著的变化：32nm工艺使用第二代高-K金属栅级、0.9nm等价氧化物厚度高-K（45nm技术是1nm）、金属栅级工艺流程更新、30nm栅极长度、第四代应变硅、有史以来最紧密的栅极间距（第一代32nm技术将使112.5nm栅极间距）、有史以来最高的驱动电流、晶体管性能提升22%、同比封装尺寸将是45nm工艺产品的70%。

　　相对于45nm工艺，NMOS晶体管的漏电量减少5倍多，PMOS晶体管的漏电量则减少10倍以上。由于上述改进，电路的尺寸和性能均可得到显著优化。